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更新时间:2026年9月16日

芯链,新赛道、新突破

—— —— 绍兴芯链正式发布9吋光罩保护膜,站稳半导体延伸封装测试领域进入新赛道

国产化Pellicle不同产品应用赛道再度突破卡脖

   继今年8月ArF (193nm)半导体保护膜发布量产, 芯链再度取得新进展,从半导体延伸至封装测试应用新赛道9吋光罩保护膜(Pellicle)产品。芯链在Pellicle产品线上又开辟一重要应用,持续攻克另一卡脖子问题,对国家来说是另一个安全供应链的完善,标志着公司已具备半导体制造与封装测试双场景的国产化保护膜供应能力,为国内封测产业链的自主可控提供了新的材料选择。

PART 01 先进封装驱动:Pellicle应用再度重要延伸

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   随着AI算力需求的爆发式增长,先进封装正成为半导体行业最重要的增长极,也为光罩及保护膜带来了结构性的增量需求。

    封装测试环节的光罩同样需要保护膜来防止颗粒污染。与半导体光刻用Pellicle的工作原理类似,封装用保护膜悬浮于光罩上方形成物理屏障,确保微粒不会落在光罩图形面上,从而保障封装工艺中的图形转移精度与生产良率。

    值得关注的是,封装端光罩呈现“小批量、多批次、高频次”的周转特征,中介层设计,工程变更频繁,对保护膜的交付效率提出了更高要求。意味着保护膜需要具备更快的交付节奏和更灵活的供应模式。

    这一特征恰恰为国产化保护膜供应商创造了切入机会—贴近客户、快速响应、灵活排产,正是本土企业的优势所在。

    芯链针对差异化需求进行开发的产品,在保持高洁净度、高透光率等核心性能的同时针对封装基板特性和工艺条件进行了适配优化。

    从全球Pellicle市场格局来看,2024年全球市场规模约8.08亿美元,预计2032年将达到14.1亿美元,年复合增长率约8.4%。其中半导体领域占据主导地位,而先进封装正成为增速最快的细分应用方向。

 

PART 02 封装用保护膜难在哪:绝不是把膜等比放大

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   从半导体6吋光罩使用的保护膜至9吋光罩封装使用保护膜尺寸规格,框架厚度仅 3.85mm,对刚性提出了额外要求。“放大”背后是四道工艺门槛:

    厚度与光学均匀性:纳米级厚度偏差会被面积放大,造成曝光场光强不均,最终反映为 CD 一致性劣化。

    张力与平整度:膜面越大越易松弛、褶皱、中部下垂,膜张力与固化曲线在装夹、传输和热循环下是否始终平整。

   缺陷密度管控:面积越大,针孔与颗粒出现概率越高,数百平方厘米膜面的缺陷管控考验成膜洁净度与在线检测。

    框架强度与密封:大而薄的框架更需控制机械形变与气密性,薄膜的张力控制与洁净成膜,是量产能力的分水岭。

    因此,封装用 Pellicle 比拼的不是“能不能做出一张大膜”,而是在更大面积上把均匀性、平整度与缺陷密度同时稳定在量产窗口,并做到品质稳定。

PART 03 国产替代战略机遇:全产业链协同    

    当前,半导体应用保护膜光罩全球有五家供应商,非半导体产品应用光罩保护膜供应商仅日本三井化学、信越化学及韩国FINE SEMITECH三家企业合计占据约85%的市场份额。在先进封装用高端保护膜领域,进口依赖度更高,供应链风险不容忽视。

    芯链在Pellicle领域的技术积累为封装用新品的开发提供了坚实基础。公司此前已实现半导体产品应用保护膜的自主量产,产品在透光率、均匀性及膜面稳定性等核心指标上达到国际同类水准。

    支撑封装测试领域用Pellicle品质的核心,是芯链构建在“保护膜+光罩基板+石英基板抛光+精密加工/注塑包装”全产业链布局。

    随着五大中心产品线的全面通线运行,芯链已彻底打通半导体光罩产业链全环节,实现了从核心材料到终端交付的全面自主可控。这一全链条能力意味着芯链能够以更短的交付周期、更稳定的品质控制,依托自主核心技术,以更完整的产品布局服务国内客户,并以半导体为基础,延伸至更广阔的本土化供应链应用领域,为更广泛的材料国产化进程贡献芯链力量。

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